SiC エピ装置および GaN-MOCVD 装置のプロセス排ガス中の H2 ガスを燃焼燃料として有効利用した燃焼式排ガス処理装置です。

特長

化石燃料を使用しない燃焼方式

炭酸ガス排出量を従来比80～90%削減します。

プロセス排ガス中のH2ガスを有効利用

燃焼燃料を大幅に減らせるので、ランニングコストの低減が可能です。

燃焼効率の向上による小型化

設置面積を従来比60%削減します。