SiC，GaN用H2バーナー
Hercules Burner（ハーキュリーズバーナー）
SiC-EPI装置およびGaN-MOCVD装置のプロセス中のH2ガスを燃焼燃料として有効利用した燃焼式排ガス処理装置です。
特長
- プロセス中のH2ガスを燃料として有効利用
→ランニングコストの低減が可能
- 素早い起動・停止（60秒）
- 装置からの排出ガスに応じた燃料制御が可能
- 排気ガスは蒸発潜熱を利用した冷却スプレーで冷却（水空冷式）
- 燃料に化石燃料を使わないため、CO2排出量を低減
処理対象ガス例
| 対象プロセス（例） | ガス種 | |
|---|---|---|
| SiC-EPI、GaN-EPI | SiH₄、NH₃、H₂、HCl 、C₃H₈、SiHCl₃ | |
仕様
| シリーズ | Hercules Burner | ||
|---|---|---|---|
| 冷却方式 | 水冷 | 水空冷 | |
| 使用燃料 | H2 *1 | ||
| 処理流量(slm) | 1,000 | ||
| 処理ポート数 | 1、2、4 | ||
| 寸法(mm) | W | 1,200 | 1,500 |
| D | 1,200 | 800 | |
| H | 2,000 *2 | 1,950 | |
| メンテナンススペース(mm) | 正面 | 800 | |
| 背面 | 800 | ||
| ユーティリティ | 電気、排気、筐体排気、DA、N2、給水、排水（水冷のみ） | ||
*2 上部突起物(300mm)含まず。突起物は搬入時に取り外し可能です