Puremateシリーズ

弊社ガス精製装置のスタンダードモデルです。
ガス種に応じて常温吸着、低温吸着およびゲッター式などの各方式をご提供します。

常温吸着式

酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、水素および水分などの不純物成分を常温で吸着除去して、不活性ガスを超高純度に精製します。メタンなど炭化水素を除去する仕様もオプションで承ります。

ゲッター式(Ar, He)

窒素、メタン、酸素、二酸化炭素、一酸化炭素および水分などの不純物成分を特殊ゲッターで除去して、希ガスを超高純度に精製します。水素を除去する仕様もオプションで承ります。

常温吸着+ゲッター式(H2)

酸素、一酸化炭素、二酸化炭素、水分などの不純物成分を常温で吸着し、窒素、メタンなどの不純物成分を特殊ゲッターで除去して、水素ガスを超高純度に精製します。

低温吸着式(H2)

酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、水分に加え、メタンおよび窒素も除去できる、液体窒素を使用する極低温吸着の精製装置です。

炭酸ガス

触媒作用および吸着作用によって、酸素、水分、揮発性有機酸(SO2)、揮発性塩基(NH3)、凝集性有機物(Decane)、非凝集性有機物(Toluene)、耐火性物質(HMDSO)を除去します。

インライン精製器

化学吸着、物理吸着により各種不純物成分を除去し、特殊材料ガスやバルクガスを超高純度に精製します。
LPIシリーズとNanochem(ナノケム)シリーズの2種類をご用意しています。

ラインピュリファイヤー(LPI)

半導体製造装置の直前の末端精製を目的とした、小型インライン式の精製器です。

NANOCHEM(ナノケム)

米国子会社 Matheson Tri-Gas. Inc で開発された、特殊材料ガス（半導体材料ガス）用の精製器です。