不活性ガス精製装置  SPNP,SPAP,SPRP - 1400series

対象ガス：N₂ / SPNP , Ar / SPAP ,He / SPRP

触媒作用にて O2, CO, H2、吸着作用にて CO2 , H2O を除去します。

保証値

		INLET	OUTLET
不純物濃度 ppb以下	O2, CO	1,000	≦0.1
	CO2	500	≦0.1
	H2	1,000	≦0.5
	H2O	2,600	≦0.1
Particles (個 / ft3)		－	≦1 (≧0.1μm)
圧力　(MPa)		0.5	≧0.4

・メタン除去タイプもございます。
・ご希望により標準外仕様についてもご相談を承ります。

標準仕様

酸素精製装置  SPOP-1400series

対象ガス：O2

触媒作用によって CH4, CO, H2 を除去、吸着作用によって CO2, H2Oを除去します。

保証値

		INLET	OUTLET
不純物濃度 ppb以下	CH4	30,000	≦0.1
	CO2	2,000	≦0.1
	CO, H2	1,000	≦0.5
	H2O	2,600	≦0.1
Particles (個 / ft3)		－	≦1 (≧0.1μm)
圧力　(MPa)		0.5	≧0.4

・ご希望により標準外仕様についてもご相談を承ります。

標準仕様

水素精製装置  SPHP-1400series

対象ガス：H2

触媒作用によって O2, CO を除去、吸着作用によって CO2, H2O を除去します。

保証値

		INLET	OUTLET
不純物濃度 ppb以下	O2	5,000	≦0.1
	CO2, CO	1,000	≦0.1
	H2O	10,000	≦1
Particles (個 / ft3)		－	≦1 (≧0.1μm)
圧力　(MPa)		0.5	≧0.4

・ご希望により標準外仕様についてもご相談を承ります。

標準仕様

アンモニア精製装置  SPMP-1000series

対象ガス：NH3

触媒作用および吸着作用によってアンモニアガス中に含まれる不純物(O2およびH2O)を低濃度まで除去します。

保証値

		INLET	OUTLET
不純物濃度 ppb以下	O2	5,000	≦5
	H2O	10,000	≦10
Particles (個 / ft3)		－	≦1 (≧0.1μm)
圧力　(MPa)		0.3	≧0.2

・ご希望により標準外仕様についてもご相談を承ります。

標準仕様