CVDプロセスやエッチングプロセスで排出される可燃性、毒性ガス及びPFC等の難分解性ガスを副生成物（NOx、CO等）を抑制し、高効率で燃焼分解します。
SaaN Burnerの燃焼分解能力はそのまま継承し、排ガスを水冷して排気風量を抑制します。内蔵スクラバータイプはHF等の副生成物も処理できます。
SiCエピ装置およびGaN-MOCVD装置のプロセス排ガス中のH2ガスを燃焼燃料として有効利用した燃焼式排ガス処理装置です。
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