プラズマCVD装置からクリーニング時に排出されるNF3ガスを無害化するために電気ヒーター加熱も併用した乾式排ガス処理装置です。

特長

NF3ガスは前段の反応筒に充填した Si 系薬剤との反応により SiF4 ガスにします。

SiF4ガスは後段の吸着筒に充填した乾式薬剤により化学的に固定しますので確実に無害化処理できます。

除害工程において危険性の高い NF3 の重合物を生成しません。

分解方式はシンプルなドライプロセスであるため、NOx 発生が無く、排水等の設備は不要です。