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工業ガス・高圧ガス|排ガス処理装置(除害装置) 燃焼 吸着 プラズマ スクラバー

半導体製造に使用されるガスの多くは、可燃性、自燃性、腐食性、毒性などの特性を持ちます。また、GWP(地球温暖化係数)が高いPFCガスもあります。
排ガス処理装置(除害装置)は、これらのガスを安全且つ確実に無害化処理する設備です。
大陽日酸は長年に渡って排ガス処理装置(除害装置)の開発・設計・製作を行っており、これらのノウハウを元にお客先のご使用条件に合った最適な設備を御提供しております。
半導体
プロセス
   除害装置 当社ラインナップ
    CVD 燃焼    
・デポガス
 (SiH4、NH3)処理
・クリーニングガス
 (C2F6、NF3)処理
・処理流量:大
   
ヒーター      
    Etcher プラズマ    
・エッチングガス
 (CF4、SF6)処理
・処理流量:大
    Ion
  Implantatio
吸着    
・ドーパントガス
 (低濃度AsH3、PH3)
 処理
    ALD        
・プリカーサー
 (TMA,TDMAT,TDMAH)
 処理